Halbleiterätzverfahren. Kinetik, Verfahrensgrundlagen und Anwendungsgebiete von nasschemischen Ätzverfahren für Si, GaAS, GaP und InP: Kinetik, ... Aetzverfahren Fuer SI, Gaas, Gap Und Inp

von: Hans Loewe · Peter Keppel · Dietrich Zach · Corinna Moritz

Wiley-VCH Verlag GmbH · 1990

Taschenbuch

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ISBN-13: 978-3-05-500706-4

ISBN-10: 3-05-500706-9