Understanding Key Molecular Properties in a CVD Process Feasibility Study: Design of Volatile Non-halogenated Precursors for the Chemical Vapor Deposition (CVD) of Copper

von Rolf Claessen Books on Demand Gmbh · 2002 Taschenbuch Details (Deutschland) Details (USA) Details (Großbritannien) Details (Kanada) Details (Frankreich) Details (Italien) Details (Spanien - España) ISBN: 978-3-8311-4274-3 ISBN-10: 3-8311-4274-2